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一、产品概述
1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途:
► 占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;
► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;
► 镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;
► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
二、技术参数
型号 | JCPY500 |
真空腔室结构 | 立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H450mm,带Load-Lock功能,支持单片或多片进取样 |
加热温度 | 室温~500℃ |
溅射方式 | 向上溅射 |
旋转基片台 | Φ150mm |
膜厚不均匀性 | Φ100mm范围内≤±5.0% |
溅射靶/蒸发电极 | Φ3、Φ4英寸磁控靶2-4支可选 |
工艺气体 | 3路气体流量控制 |
控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
占地面积 | (主机)L1800×W800×H1845mm |
总功率 | ≥15KW |