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一、产品概述
1、适用范围:适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。
2、产品优点及特点:该设备是利用有机金属源化学气相沉积技术,石英管生长室清洁无污染;多路气体控制合理;PID加热温度高控温准确且均匀,高真空环境,兼具真空退火炉功能。
3、主要用途:可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。
二、技术参数
型号 | 100 |
真空腔室结构 | 高纯石英管 |
真空腔室尺寸 | Φ100×L1000mm |
衬底温度 | 室温~1000℃,可调可控 |
电源 | DC |
控制方式 | PLC控制 |
占地面积 | 主机L1620×W1060×H1900mm |
总功率 | ≥6KW |