一、产品概述

1、适用：广泛用于大专院校、研究院所和企业器件研发制造及小批量试产。

2、产品特点：配置圆形磁控溅射靶、矩形磁控溅射靶、多弧靶、磁过滤弧源等，兼具磁控、离子镀等多种功能，适用于有多种镀膜需求的高校科研单位。

3、主要用途：

►该设备可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜、DLC等；

►膜层示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氮化钛、碳化钛、氮化钛铝、氮化铬、氧化钛、氧化铝、ITO、二氧化硅等；

►应用：刀具、模具、电子配件、金属外壳、陶瓷基片等。

►适合：适合中试及小批量生产及贵金属精密生产。

►专业：专业化、功能化、平台化、精细化设计满足不同功能膜系开发、制备；全自动控制，人性化设计更容易操作及工艺重复性稳定。

二、技术参数