薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。

在常压下蒸镀膜料无法形成理想的薄膜，事实上，如在压力不够低 ( 或者说真空度不够高 ) 的情况下同样得不到好的结果，得到的膜层不但不光亮，甚至发灰、发黑，而且机械强度极差，用松鼠毛刷轻轻一刷即可将铝层破坏。

在真空状态下进行镀膜可以避免空气分子的干扰和杂质的混入，确保被镀物表面的纯度和光滑度。如果在非真空状态下进行镀膜，则空气分子会与镀层反应或影响到被镀物表面的组成，改变了被镀物的材料特性和性能，影响到镀层的质量和长期使用寿命。同时，在真空下镀膜可以有效地控制镀层的厚度和均匀性，从而提高镀层的质量，提高被镀物的整体性能和稳定性。

真空镀膜的方式多种多样，不论是蒸发镀膜，还是溅射镀膜，或者离子镀膜、卷绕镀膜，其核心的镀膜工艺过程都需要在10-2～10-4Pa，甚至更高的真空环境下进行。需要真空环境的原因，主要涉及两个方面：

真空镀膜过程中，薄膜材料需要通过蒸发或者粒子轰击使其成为分子或者原子，然后以较大的自由程做直线运动，碰撞待镀膜基片表面凝结后最终形成薄膜；如果镀膜室的真空度不够，就意味着残余的气体分子过多，薄膜材料分子平均自由程变小，抵达基片的过程中，会与残余的气体分子频繁发生碰撞，最终使薄膜材料的分子（原子）无法顺利抵达凝结成膜。

其次是，残余气体分子过多的情况下，薄膜材料分子（原子）凝结成膜时会夹杂大量其杂质气态分子，使薄膜的纯净度下降，进而影响膜层分子的附着性，使其牢固度下降，同时不纯的膜层更容易被氧化而产生其他杂质。

另外，像通过粒子轰击方式来获得薄膜材料分子（原子）的，本身就需要在真空环境下实现，以及离子清洗等过程也无法离开真空环境。

真空条件下进行镀膜有以下几个原理：

1. 避免氧化反应：在真空条件下，空气中的气体被抽出，从而避免与被镀物和镀料发生氧化反应，保证镀层的纯度。

2. 避免灰尘、杂质：在真空条件下，由于气体被抽出，可以避免灰尘和其他杂质污染镀层和被镀物表面。

3. 控制镀层厚度：在真空条件下，可以对镀膜过程进行准确的监控和控制，从而实现对镀层厚度和均匀性的精确控制。

4. 提高镀层质量：真空条件下，镀层在离子和原子水平上可以更加完整、充实地形成，从而更加坚硬、光滑和致密，整体质量更加坚固和耐久。

真空镀膜具有以下优势：

1.镀层质量高：真空镀膜能够控制被镀物表面的温度和真空度，从而能够形成致密、光滑、均匀的镀层。与其他表面处理方法相比，真空镀膜的镀层质量更加高。同时，真空镀膜还能够更好地保护被镀物表面，延长其使用寿命。

2.生产效率高：相比较于其他表面处理方法，真空镀膜具有较高的生产效率和较短的时间周期。它还可以同时镀多个被镀物，从而满足批量生产的需要。此外，真空镀膜还可以达到特殊形状被镀物的镀层要求。

3.环保加工：使用真空镀膜可以大大减少化学品的使用和减少废水、废气等的产生，比其他金属表面处理方法更加环保。

4.应用范围广：真空镀膜可以被应用于与传统金属表面处理方法相兼容的材料（如金属、塑料等材料）。而且，真空镀膜可以在广泛的行业中使用，如航空航天、电子、汽车、光学、医疗、电力等行业。

真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。

综上所述，真空条件下进行镀膜可以保证镀层的纯度和均匀性，提高镀层的质量和稳定性，使得被镀物更加可靠和耐用。